OTSUKA大塚膜厚仪FE-300NIR；
小型/格/简单操作/非接触的膜厚仪！
反射率测量、多层膜厚解析/光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)。
特点：
◆薄膜到厚膜的量测范围。
◆基于反射率光谱分析膜厚。
◆小型/，高精度。
◆无复杂设定，操作简单，短时间内即可上手。
◆外观新颖，操作性提高。
◆非线性小平方法，实现解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)。
|
型号
|
FE-300V
|
FE-300UV
|
FE-300NIR *1
|
|
对应膜厚
|
标准型
|
薄膜型
|
厚膜型
|
厚膜型（高分辨率
|
|
样品尺寸
|
大8寸晶圆(厚度5mm)
|
|
膜厚范围
|
100nm～ 40μm
|
10nm ～ 20μm
|
3μm～300μm
|
15μm～1.5mm
|
|
波长范围
|
450nm～780nm
|
300nm～800nm
|
900nm～1600nm
|
1470nm～1600nm
|
|
膜厚精度
|
±0.2nm以内*2
|
±0.2nm以内*2
|
-
|
-
|
|
重复精度
|
0.1nm以内*3
|
0.1nm以内*3
|
-
|
-
|
|
测量时间
|
0.1s ～ 10s 以内
|
|
光斑直径
|
约φ 3mm
|
|
光源
|
卤素灯
|
氙灯与卤素灯
|
卤素灯
|
卤素灯
|
|
通讯接口
|
USB
|
|
尺寸，重量
|
280(W)× 570(D)×350(H)mm，约24kg
|
|
软体功能
|
|
标准功能
|
波峰波谷解析、FFT解析、适化法解析、小二乘法解析
|
|
选配功能
|
材料分析软体、薄膜模型解析软件、标准片解析
|
