OTSUKA大塚椭圆偏光膜厚测量仪FE-5500；

通过自动多角度椭圆偏振光测量仪，实现高速的薄膜膜厚测量和高精度的化学常数解析。

产品特点：

纳米级的薄膜膜厚测量

◆非接触非破坏实现多层膜的解析。

材料表面光学常数（n.k）的测量

◆可求得膜厚以及光学定数的波长分数。

[膜厚，光学定数 (n：折射率、k：消光系数)、 椭圆偏光仪(tan.  cos)]

· 提供膜厚管理膜质管理有用的信息

通过400ch以上的多通道光谱法，迅速测量椭圆光谱

◆可实现一分钟以内的高速测量。

◆光谱点多，所以坡度大的椭圆光谱也可正确测量。

利用多波长光谱仪实现高精度高感度测量

测量反射角度可变，对应薄膜的高精度解析

可对应特制解析的材料物性和多层膜等的高度评价

◆利用多层膜fitting解析的光学常数测量实现了膜厚膜质管理。

◆利用有效媒质近似（EMA）可测量复素折射率的波长分散，混合结晶的混合比，界面的厚度等。

◆利用各种光学常数函数和膜model解析，可对应薄膜界面等的材料物性评价。

◆通过光学常数数据基础化和菜单登陆功能，改善了操作性。

应用范围：

■ FPD
・LCD、TFT、FED(有机EL)。
■ 半导体

・a-Si，poly-Si，其他。

■ 复合半导体
・半导体激光，强电介质。
■ 数据储存
・DVD、HDD、磁气头。
■ 光学材料
・膜、防反射膜。
■ 膜
・AR膜。