这是使用高效双流体喷嘴蒸发器结构的*型号,扩大了蒸发室,并改进了蒸发出口以抑制未蒸发的排放。
汽化室的体积比 VU-450 大,以改善对流时间和热交换面积。 实现高流量汽化。
通过增加到气体出口的距离,可以抑制油雾(未蒸发)的排放。
非常适合用于低 k、高 k 和各种金属,用于低蒸汽压、高流量汽化和高流速。
由于它是阀式气化器,因此可以与 LM-3000L 组合使用,以控制气化器附近的液体流速。 可实现高响应性的汽化流量控制。
长处
- 高效汽化
- 可维护性
- 阀门接近度
- 出口加热距离增加
使用示例
半导体材料的汽化供应CVD、ALD
通过扩大汽化室,从中央双流体喷嘴喷出的雾气比 VU-450 扩散得更多。 通过增加加热器 W,TEOS 可以稳定蒸发 30 g/min 和 H2O 5 g/min 的大流速。
规格表
*温度 | 载气流速 | H2O 汽化量 | TEOS 汽化量 | 密封材料 |
200°C | 0.8~130SLM | 5 克/分钟 | 30 克/分钟 |
Au Carlez (奥卡雷斯酒店) |